EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品，它的最小工业节点到了22nm-7nm，其制造技术极具复杂，是世界上最先进的光刻机设备。近日，韩国光刻机工艺迎来了新突破。
TechWeb 11月17日消息，韩国知识产权局(KIPO)公布的统计数据显示，过去十年(2011-2020年)韩国EUV光刻专利在2014年达到88项的顶峰，2018年达到55项，2019年则为50项。
这也意味着，当下韩国半导体工业崛起的速度不容小觑。据报道，以三星为代表的韩国企业进行了深入的研究和开发，在EUV光刻技术上一直不断缩小和其他国家企业之间的差距。
基于对EUV光刻机的攻破，三星近期正式推出了Exynos1080芯片，这是韩国巨头首款基于5nm工艺的SoC芯片。报道指出，通常三星旗舰手机大多使用美国公司高通制造的芯片，如果未来三星Exynos能够真正崛起的话，那么该韩企将会成为超越高通以及苹果的存在。
那么，中国在这一领域的进展如何?分析认为，我国光刻机正遭遇“前狼后虎”的困境。所谓“前狼”，即以美国为首的国家正针对中企围追堵截;而“后虎”则意味着在我国自研技术相对落后，大力发展半导体工业的同时，也不要忽视来自韩国的潜在威胁。
在攻克光刻机的难题上，中国虽起步较晚，但国产光刻机的进程已在逐步推进。据C114通信网消息称，上海微电子即将于2021年交付首台国产的28nm光刻机。若消息属实，我国对海外光刻机的依赖将有所缓解，国产芯片的制造也将被大大推动。
9月16日，中国科学院还表示，将对光刻机及一些关键的核心技术、关键原材料进行布局，集中全院力量来攻克光刻机的技术难题。
总的来说，当下中国企业寻求技术独立自主的步伐正在加快。美媒11月17日最新报道称，
2020年以来，中国半导体企业通过首次公开募股(IPO)、私募筹资和资产出售等方式，已筹集了近380亿美元的资金，较去年同期增长两倍多。
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