EUV技术突破 缩小和其他国家企业之间的差距

2020-11-19 15:22:09

EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品,它的最小工业节点到了22nm-7nm,其制造技术极具复杂,是世界上最先进的光刻机设备。近日,韩国光刻机工艺迎来了新突破。

TechWeb 11月17日消息,韩国知识产权局(KIPO)公布的统计数据显示,过去十年(2011-2020年)韩国EUV光刻专利在2014年达到88项的顶峰,2018年达到55项,2019年则为50项。

这也意味着,当下韩国半导体工业崛起的速度不容小觑。据报道,以三星为代表的韩国企业进行了深入的研究和开发,在EUV光刻技术上一直不断缩小和其他国家企业之间的差距。

基于对EUV光刻机的攻破,三星近期正式推出了Exynos1080芯片,这是韩国巨头首款基于5nm工艺的SoC芯片。报道指出,通常三星旗舰手机大多使用美国公司高通制造的芯片,如果未来三星Exynos能够真正崛起的话,那么该韩企将会成为超越高通以及苹果的存在。

那么,中国在这一领域的进展如何?分析认为,我国光刻机正遭遇“前狼后虎”的困境。所谓“前狼”,即以美国为首的国家正针对中企围追堵截;而“后虎”则意味着在我国自研技术相对落后,大力发展半导体工业的同时,也不要忽视来自韩国的潜在威胁。

在攻克光刻机的难题上,中国虽起步较晚,但国产光刻机的进程已在逐步推进。据C114通信网消息称,上海微电子即将于2021年交付首台国产的28nm光刻机。若消息属实,我国对海外光刻机的依赖将有所缓解,国产芯片的制造也将被大大推动。

9月16日,中国科学院还表示,将对光刻机及一些关键的核心技术、关键原材料进行布局,集中全院力量来攻克光刻机的技术难题。

总的来说,当下中国企业寻求技术独立自主的步伐正在加快。美媒11月17日最新报道称,

2020年以来,中国半导体企业通过首次公开募股(IPO)、私募筹资和资产出售等方式,已筹集了近380亿美元的资金,较去年同期增长两倍多。

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