都知道，芯片生产制造企业不仅是重资产行业，还是高技术门槛行业，全球范围内，能够研发设计芯片的企业很多，但能够制造生产芯片的企业却很少。
据悉，全球仅有台积电、三星、英特尔以及中芯等少数企业能够生产制造芯片，在这些厂商中，只有台积电、三星等少数厂商能够生产制造7nm以下的芯片。
而7nm以下的芯片之所以难以生产，一方面是因为技术难度大，另外一方面是没有EUV光刻机，后者更为重要一些。
因为EUV光刻机是生产制造7nm以下芯片的必要设备，而这种设备目前仅有ASML能够研发生产制造。
但EUV光刻机产能有限，多数都是被台积电拿下，三星也处于紧缺状态，其它厂商想买也比较困难的。
简单说就是，没有EUV光刻机，暂时就无法量产7nm芯片，而7nm以下的芯片主要用在手机等移动设备上，需求又很大。
所以，用户都很关心，国产5nm光刻机是否有戏。
其实，这个答案明确，国产5nm光刻机是有戏的，这三点已经给出结果。
第一点，国产5nm蚀刻机已经量产并商用。
据悉，要生产芯片，光刻机、蚀刻机和MOCVD是三大关键的制造设备，制造芯片制程的芯片，这三样设备都需要是最先的。
例如，生产7nm以下的芯片，自然需要EUV光刻机，也需要5nm的蚀刻机，而在5nm蚀刻机方面，国内厂商完全是走在世界前列。
因为全球首款5nm蚀刻机就是中微半导体研发生产的，技术更是全球一流，三星、台积电等纷纷下单购买，其中，台积电5nm的生产线上，已经安装该蚀刻机。
也就是说，国产5nm蚀刻机已经获得台积电的订单，并大量应用在其5nm等芯片生产线中，可见在芯片设备制造方面，国内厂商的实力还是相当强大的。
第二点，国内也已经研发出来先进的5nm光刻技术。
光刻机的工作原理就是利用光在硅片进行雕刻，所以光源是最主要的是，而先进的EUV光刻机，主要体现光源上。
因为光源的波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，从而雕刻更制程更小的芯片。
而国内研发机构，也已经掌握一项全新5nm激光技术，其主要用途是制作光掩膜，但该产品也是集成电路的重要组成部分。
简单说就是，在先进的光刻技术方面，国内研发机构又掌握了一项关键技术。
第三，华为以及中科院等已经出手。
据了解，华为已经全面进入芯片半导体领域内，还要在终端制造方面突破技术瓶颈，有消息称，华为还计划在2年内投资200亿美元研发光刻机技术等。
另外，华为任正非还走访了国内顶尖研发机构——中科院，而中科院也已经将先进光刻机技术作为优先研发突破的课题。
也就是说，华为以及国内顶尖研发机构都在全力突破光刻机技术。
总结一下就是，国内能够成功研发出来全球领先的5nm蚀刻机，还在5nm光刻技术方面实现了突破，而华为以及中科院等，又都在研发光刻机技术。
在各个技术逐个突破的情况下，国内5nm先进光刻机是一定能够研发出来的，无非多花点时间，多投入一些研发资金。
最主要的是，国产光刻机能够从90nm的光刻机直接推进到14nm的光刻机，5nm的光刻机自然也不在话下。
所以才说国产5nm的光刻机有戏，这三点给出了结果。对此你们怎么看，欢迎留言、点赞、分享。
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