荷兰ASML暴富 阻碍技术攻克难度非常的大

2021-01-27 16:38:10

光刻机的重要性想必不用多讲,大家应该也都知道了,作为芯片生产过程之中,作为最重要的设备,光刻机的精度决定了芯片的精度。而光刻机的曝光光源确定了光刻工艺加工期间的现款等等特殊尺寸,所以使用了最为先进极紫外光源的EUV光刻机,就受到了三星以及台积电这种芯片代工巨头的争宠。

阿斯麦赚得盆满钵满

而这其中最大的受益者就是唯一能够生产EUV光刻机的阿斯麦。有相关数据显示,2020年阿斯麦全年销售额为139.8亿欧元,交付光刻系统258台,在净利润以及销售额等等很多方面,阿斯麦在2020年的业绩已经创下来五年新高。

值得注意的是,其31台意为占据了总体销售额的3%。通过计算,不难得出阿斯麦31台EUV光刻机卖出了352亿的价格。如今的阿斯麦买一改往日没钱,没技术没关注的风范,正意气风发。

2004年,全球首台浸润式光刻机问世,成为阿斯麦发展史中第一个转折点。可让人没有想到的是,这一切与一位叫做林本坚的台积电工程师有关。

中国工程师功不可没

那个时候,光刻机的光源波长卡在了193纳米,严重制约了芯片精度的向前推进。而为了打破这样的僵局,以尼康为首的半导体巨头,希望能够基于前代的技术才有157纳米的极管实现更进一步,EUV LLC联盟一排最后更加希望攻克机环技术,实现实际纳米的光源,可见其阻碍技术攻克难度非常的大

于是中国专家林本坚就想,是不是可以用水改变光的折射率原理,缩短光源的波长。这样一来,193纳米的激光就能够达到192纳米的波长。而为了实现这样一个想法,林本坚走访了很多半导体企业巨头,可是都被拒绝了。

要知道,那个时候正是竞争的关键时刻,谁都不愿意将自己的命运放在这种新方法吃上,虽然听起来容易。可是其中有很多难点需要攻克。可是,阿斯麦在听到这一想法之后,倒是想要试一试。当时的阿斯麦是本着死马当作活马医的思想,本身起就没有特别大的优势,如果这次能够带来转折当然是好的。

阿斯麦的转折

2004年,全球首台浸入式光刻机问世,阿斯麦干倒了尼康的干式157纳米光刻机,并且阿斯麦的光刻机精度更高性能更加强。从此之后,IBM以及台积电等等都向着阿斯麦抛出了橄榄枝,而也是从这个时候,阿斯麦才开始在市场之中的份额呈现快速增长趋势。

之后阿斯麦成功打入euv llc联盟,而尼康很不幸地被拒之门外。最后,阿斯麦成功研发出EUV光刻机,奠定了其在光刻机领域难以撼动的位置,而这一切的一切都要感谢这位叫做林本坚的中国专家,可以说荷兰阿斯麦能够暴富实现如今在光刻机领域龙头老大的位置,中国专家林本坚是功不可没的。

如果说没有林本坚,那么阿斯麦一定没有现在的辉煌,不过也是当时的阿斯麦给了林本坚一个机会,让其的才华得以施展,才有了后来阿斯麦的地位。仅仅只是一念之间的选择,就足以改变阿斯麦在国际领域中的地位.

有时候一念之间的选择真的能够改变很多事情,而你的选择将会决定你将来的命运,就拿阿斯麦来讲,如果不是因为当时做出了这样一个选择,那么阿斯麦到现在很有可能已经不存在了。

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