光刻专利倍增 和韩国争抢极紫外光刻技术的专利

2021-01-12 16:54:03

近些年中国决心突破美国技术的封锁,然而现在又多了一个强大的拦路虎,那就是韩国!

据环球风报道:韩国知识产权局发布的报告显示,过去10年来,向该局申请极紫外(EUV)光刻相关专利的韩国企业数量连年增长,其中2019年的50件申请中,韩国企业提交了40个,不完全统计2020年的申请中,韩国企业提交的部分也达到国外企业申请的两倍以上。

据悉:韩国科学技术院研究团队参与的一项国际联合研究,开发出“非线性量子机器学习AI算法”,显示出超越需要大规模计算的现有AI技术的可能。韩国电子通信研究院和SK电信合作,开发出超低功耗NPU芯片,采用单独开关,通过每个计算单元的软件技术将AI芯片的电力消耗降低了一个数量级。

美国的科技打压已经严重的影响中国民众享受最高科技的权利,美国的断芯片危机已经让华为没办法顺利出售手机,为了打破美国的技术封锁,中国已经多管齐下,华为也在通过自身的努力扶持国内供应链,也在一边自主研发技术,目前已经有不小的突破,不过就在中国努力之际,一个强大的拦路虎正在悄悄崛起,将成中国的对手!

这个拦路虎就是韩国,韩国虽然没有遭遇中国这样的技术封锁,然而韩国这些年在科技的投入不计其数,前几年和日本的贸易争端更是让韩国铁了心要在技术上拥有一席之地,我们可以看到韩国的努力确实非同小可。没几年时间已经在极紫外光刻技术专利有这么多的突破。

中国未来想要达到自主生产芯片,突破极紫外光刻技术也是一个必不可小的重要节点,而韩国现在显然在和中国争夺这一赛道,一旦让韩国获得更多极紫外光刻技术的专利,对于中国来说是一个坏消息,中国现在的任务不只是要和突破美国的封锁了,还需要和韩国抢时间了,时间正在慢慢消失,留给我们的时间不会太多,必须要加倍留意韩国这个对手的进展,由于韩国是是美国的盟友,并且几乎没有话语权的韩国铁定会成为美国的打手,所以我们不能只把目光停在美国身上,还需要和韩国争抢极紫外光刻技术的专利!

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