1月20日，晶瑞股份(300655.SZ)的股价大涨。截止中午11点30分，涨幅达到6.93%, 报35.57元。
就在19日，晶瑞股份(300655.SZ)发布了“关于购买光刻机设备进展情况的公告”。公告表示，为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目，“经公司多方协商、积极运作，顺利购得ASMLXT1900Gi型光刻机一台。”
经济观察网记者采访了晶瑞股份，咨询有关光刻胶的生产研发状况。对方向记者表示：“公司目前正在生产和销售的半导体光刻胶主要包括I 线和G 线光刻胶，此外还有印制电路板(PCB)和液晶显示器(LCD)光刻胶等;购买的光刻机主要用于未来高端半导体光刻机的研发。”
上述公告亦显示，该台光刻机已于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室，下一步，公司将积极组织相关资源，尽快完成设备的安装调试工作。
关于购买该设备的背景，公告则称：目前高端集成电路材料的核心产业化技术仍掌握在国外企业手中，大部分市场份额仍被外企所占据，不少集成电路用关键材料已经成为我国“卡脖子”的技术领域，在国际环境日益严峻的情况下，如不能成功实现该领域的国产化，未来将付出更大的代价。公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。本次购买的ASML光刻机设备系公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目的必要实验设备，旨在研发出更高端的ArF光刻胶，若研发工作进展顺利，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。
有关光刻机的具体研发用途，晶瑞股份还进一步表示：“公司采购的光刻机设备为ASMLXT1900Gi型ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。”
当天，为了迎接这台光刻机，晶瑞股份还现场举行了搬入仪式。晶瑞股份董事长吴天舒在现场讲话中表示：“浸没式光刻机是高端光刻胶研发的关键设备，尽管投入巨大，晶瑞股份还是下定决心购买。为解决集成电路制造领域关键材料“卡脖子”问题，加速高端ArF光刻胶研发，建立研发平台，公司后续还将购置其他相关辅助设备，并尽早完成设备的安装调试，投入使用。”
经济观察网记者记者还了解到，2020年年底已经有国内企业研发出了高端的ArF光刻胶。2020年12月17日，南大光电(300346.SZ)发布公告称，子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证，成为国内通过产品验证的第一款国产ArF光刻胶。
太平洋证券在2020年12月发表的一篇研究报告《ArF光刻胶认证通过，国产替代龙头进阶在即》中曾指出：“据全球半导体行业协会SEMI最新数据，2020年全球半导体材料市场将达到 529.4亿美元，且2021年将增长至563.6亿美元，同比增长6%。而在众多半导体材料体系中，制备难度和技术重要性首屈一指的，非光刻胶莫属。作为 IC光刻工艺中，光刻胶扮演着电路图案载体的重要角色，其品质好坏直接决定着光刻制程的成败。此外，光刻胶分辨率所能达到的极限指标，便是光刻工艺的极限领域。”
标签： 光刻机
营业执照公示信息