光刻机是芯片制造过程中，最为核心的设备，负责在硅晶圆上刻画出电路设备。而光刻机用来雕刻的工具，便是“光线”。光线波长越短，所能实现的芯片精度也就越高，制程越小。
当前，波长为13.5nm的EUV光刻机精度最高，可助力芯片制造厂实现5nm，乃至3nm制程芯片，因而被台积电、三星所争抢。
目前，全球仅一家企业可生产EUV光刻机，那便是荷兰ASML。
ASML行业垄断地位
据悉，在2020年销售的413台光刻机中，有258台出自ASML之手。
同时，ASML因对高利润的高端光刻机的绝对垄断地位，2020年全球光刻机销售额的91%，都被ASML收入囊中。
2020年，ASML净销售额达到140亿欧元，折合人民币1087亿元。其中，EUV收入为45亿欧元，约为349亿元人民币。
而随着工艺制程的逐步推进，以及先进工艺制程芯片需求量的不断提升，EUV光刻机的重要性日益凸显，需求量也将提升。
据SeekingAlpha消息，ASML的EUV设备营收在2023年时，将较2020年时翻倍。
三星、台积电争抢订单
光刻机制造难度大，涉及10万多个零部件。因而，ASML每年的光刻机产能都十分有限。
为了保持领先行业领先地位，三星、台积电难免会抢夺ASML产能。
如今，就连SK海力士也加入了采购EUV设备的行列，日前同ASML签订43.4亿美元的EUV设备采购协议。
这让台积电、三星之间本就激烈的竞争，更是进入白热化。
据digitimes报道称，在ASML2020年卖出了近86台EUV设备，其中，台积电采购44台，三星采购19台。
可以看出，台积电采购EUV数量明显更多。据悉，全球将近50%的激活光刻机，被台积电安装。
台积电助力ASML逆袭
台积电与ASML颇有渊源，这是其总能拿到大部分光刻机的一大原因。
21世纪初期，光刻机光源波长卡在了193nm，难以前进。此时，台积电工程师林本坚突发奇想，提出“浸润式光刻”方案来实现突破。
当时，林本坚的方案遭到了尼康、佳能等彼时光刻机巨头的拒绝，它们都不想冒险采用一种新方案。
唯独还十分弱小的ASML找到林本坚，希望能以此翻盘。于是，ASML同台积电合作，在2004年，推出全球首台浸润式光刻机样机。
浸润式光刻机可实现等效132nm光源，比尼康的干式微影光刻机有着更高精度。这成为ASML翻身的第一仗。ASML也是在这时，同台积电建立了紧密的合作关系。
在ASML的支撑下，台积电也逐渐发展壮大。最终，二者成为半导体领域的两大强者。
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